三星电子开发出透光率达 88% 的 EUV 薄膜

来源:众壹云 发布日期:2023-01-16 11:20

光罩护膜 / 薄膜是极紫外 (EUV) 光刻工艺中的关键部件,指的是在光罩上展开的一层薄膜,然后用机器在上面绘制要在晶圆上压印的电路,旨在使光罩免受空气中微尘或挥发性气体的污染并减少光掩模损坏,该领域目前仍由荷兰 ASML、日本三井化学主导,而韩国 S&S Tech 等后来居上者也是主要供应商之一。

韩媒 ETNews 报道称,三星电子已经自主开发出了透光率高达 88% 的 EUV 薄膜,有助于实现供应链多元化和稳定。据证实,这款透光率 88% 的 EUV 薄膜产品已经可以大规模生产。

▲ EUV 薄膜(pellicle)   图源:ASML

▲ EUV 薄膜(pellicle) 图源:ASML

三星电子在去年的 2021 Foundry Forum 上宣布自研 EUV 薄膜,当时还公开宣布他们开发出了 82% 透光率薄膜技术,并宣布到 2022 年将拥有 88% 透光率的量产系统。

值得一提的是,韩国公司 S&S Tech 在 2021 年生产成功开发出了透光率达 90% 的半导体 EUV 薄膜,一举成为除了 ASML 之外另一家成功开发出了透光率超过 90% 的 EUV 薄膜的公司。据称,三星对它的要求是将比率提高到 94%。

业界预测,今年 EUV 薄膜的需求将比去年增加近 2 倍,而韩国国产的 EUV 薄膜最早将会在 1~2 年内商用化。此外,台积电也正在加快开发自己的产品以确保 EUV 薄膜可控。

▲ ASML 曝光过程图

▲ ASML 曝光过程图

(来源:IT之家)

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