光刻胶的用量，即体积，体积越大，则用量越大。而留存在晶圆上的光刻胶体积可以近似等于晶圆的面积x光刻胶厚度。那么直观影响因素是晶圆的尺寸与光刻胶的胶厚。

匀胶方式：目前流行的匀胶有静态旋转法和动态喷洒法。静态旋转法是指在开始旋转晶圆之前，将一定量的光刻胶滴在静止的晶圆中心。然后启动旋转，利用离心力将光刻胶均匀铺展到整个晶圆表面。动态喷洒法指的是在晶圆旋转的同时，通过喷嘴动态地喷洒光刻胶到旋转中的晶圆上。喷洒的位置和速率可以精确控制，以实现匀胶的均匀性。动态喷洒法的光刻胶使用效率更高，所需的光刻胶更少。

1. 设计合理的胶厚；
   
2. 选择合适的光刻胶种类，黏度等；
3. 选择临界的均胶转速，在保证质量的前提下，适当降低匀胶速度。低转速少量滴胶就可以达到高转速大量滴胶的厚度；
   
4. 找到临界的滴胶量与滴胶速率，在晶圆转速固定的情况下，提⾼滴胶速率可以显着减少光刻胶的使⽤量；
5. 优化涂胶方式，运用动态喷洒法进行匀胶。